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        股票代碼

        300820

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        產(chǎn)品描述
        參數(shù)
        型號定義
        主要參數(shù)

        ● 全數(shù)字控制,匹配精度高,匹配時間短
        ● 采用真空電容,可靠性高,使用壽命長
        ● 結(jié)構(gòu)緊湊,體積小,安裝便捷
        ● 超寬匹配范圍,可定制適配任意負載
        ● 具有手動/自動匹配功能
        ● 具有保持和預(yù)置設(shè)定功能
        ● 具有通訊功能,可獨立連接上位機實時顯示負載狀態(tài)

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        輸入

        控制電壓:AC230V±10% 或 DC24V

        輸入接口:N型、HN、7/16

        頻率:13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz

        傳輸功率:1.5kW~6kW

        射頻輸出電壓:4000Vpeak

        射頻輸出電流:25Arms~120Arms

        輸出

        輸出接口:7/16、B20N、銅排, 其他規(guī)格可定制

         

        性能指標(biāo)

        匹配時間:A系:端對端<5s ,預(yù)設(shè)點到匹配點 1s~3s
        C系:端對端<3s ,預(yù)設(shè)點到匹配點 0.3s~2s

        駐波:A系:<1.2 C系:<1.1

        阻抗實部:1Ω~200Ω

        阻抗虛部:+200j~-200j

        負載類型:ICP 或 CCP

        外形尺寸:根據(jù)客戶要求定制

        注:產(chǎn)品不斷創(chuàng)新,性能繼續(xù)提升,本參數(shù)說明僅供參考。

        RMC系列

        RMC系列匹配器

        適用于光伏產(chǎn)業(yè)、平板顯示器行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)、化工業(yè)、實驗室、科研、制造業(yè)等領(lǐng)域。適用于等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)、等離子體刻蝕、等離子體清洗、射頻離子源、等離子體擴散、等離子體聚合濺射、反應(yīng)濺射等工藝。
        產(chǎn)品特點

        ● 全數(shù)字控制,匹配精度高,匹配時間短
        ● 采用真空電容,可靠性高,使用壽命長
        ● 結(jié)構(gòu)緊湊,體積小,安裝便捷
        ● 超寬匹配范圍,可定制適配任意負載
        ● 具有手動/自動匹配功能
        ● 具有保持和預(yù)置設(shè)定功能
        ● 具有通訊功能,可獨立連接上位機實時顯示負載狀態(tài)

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        主要參數(shù)

        輸入

        控制電壓:AC230V±10% 或 DC24V

        輸入接口:N型、HN、7/16

        頻率:13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz

        傳輸功率:1.5kW~6kW

        射頻輸出電壓:4000Vpeak

        射頻輸出電流:25Arms~120Arms

        輸出

        輸出接口:7/16、B20N、銅排, 其他規(guī)格可定制

         

        性能指標(biāo)

        匹配時間:A系:端對端<5s ,預(yù)設(shè)點到匹配點 1s~3s
        C系:端對端<3s ,預(yù)設(shè)點到匹配點 0.3s~2s

        駐波:A系:<1.2 C系:<1.1

        阻抗實部:1Ω~200Ω

        阻抗虛部:+200j~-200j

        負載類型:ICP 或 CCP

        外形尺寸:根據(jù)客戶要求定制

        注:產(chǎn)品不斷創(chuàng)新,性能繼續(xù)提升,本參數(shù)說明僅供參考。

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